OBLF光譜儀是一種高精度的光譜分析儀器,其原理基于散射和反射現(xiàn)象。它向被測物質(zhì)中發(fā)射一束寬譜白光,并通過光纖探頭接收反射和散射光。被測物質(zhì)中的顆粒、分子或界面會根據(jù)其顏色和形態(tài)對光的散射和反射產(chǎn)生不同的效應。在光纖中傳輸?shù)墓庑盘枙艿奖粶y物質(zhì)中顆粒和分子的散射和吸收作用,導致光強度的衰減。通過測量不同波長的光強度,可以得到材料對不同波長光的吸收和散射特性,從而分析樣品的成分和結(jié)構(gòu)。
1、技術先進:采用GDS(Gated discharge source)脈沖放電光源技術、全固態(tài)電路,無需輔助電極,維護簡單。
2、高效節(jié)能:無靜態(tài)氬設計,在等待樣品分析時可以不用氬氣保護,大大減少氬氣消耗量。
3、多基體分析能力:可同時分析Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Mg、Pb、Sn、Zn、Co等各種基體材料。
4、快速分析:自動完成從磨樣、取樣到分析的全部過程,通常只需一分鐘內(nèi)即可完成。
5、高穩(wěn)定性:光學系統(tǒng)采用真空光室,積分及控制電路置于真空光室中,不受外界環(huán)境變化的影響,測定結(jié)果準確,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性佳。
6、自清潔功能:開放式的電極架設計,具有自清潔功能,便于各種形狀和尺寸的樣品分析。
7、靈活配置:最多可安置60個分析通道,可根據(jù)需要延伸及擴展范圍。
8、操作簡便:儀器操作界面友好,易于上手,且具備自動化程度高的特點。
9、廣泛應用:適用于冶金、鋼鐵、鑄造、有色行業(yè)等實驗室環(huán)境下的快速分析需求。
